Маск зустрінеться з Нетаньяху на тлі суперечок щодо антисемітизму

Ілон Маск планує зустрітися з прем’єр-міністром Ізраїлю Біньяміном Нетаньяху наступного тижня в Силіконовій долині, оскільки найбагатша людина світу стикається з дедалі більшою критикою через антисемітизм на своїй платформі соціальних мереж X.

Зустріч відбудеться перед тим, як Нетаньяху візьме участь у Генеральній асамблеї ООН у Нью-Йорку, повідомив Топаз Люк, речник прем'єр-міністра. Першою про заплановану зустріч повідомила газета Washington Post.

Це відбувається в той момент, коли і Маск, і Нетаньяху стикаються з гострою публічною критикою. Маск перебуває в ескалації конфлікту з Антидифамаційною лігою, єврейською правозахисною організацією, яку він звинувачує в підриві рекламних доходів X. ADL, разом з іншими правозахисниками, звернули увагу на зростання екстремістського контенту на платформі, раніше відомій як Twitter, після того, як Маск перебрав її минулого року та звільнив більшість її співробітників.

Раніше цього місяця Маск погрожував подати до суду на ADL і поставив лайк X публікацій, які використовували хештег «BantheADL». Минулого тижня Маск заявив, що він «за свободу слова», але проти «антисемітизму будь-якого роду».

ADL відмовився коментувати плани Нетаньяху зустрітися з Маском.

Для Нетаньяху ця зустріч відбулася після того, як його спроби послабити судову систему Ізраїлю спровокували багатомісячні протести, які підтримують багато технологічних підприємців країни.

Прем’єр-міністр, який довгий час вважав себе лідером, який перетворив економіку Ізраїлю на технологічний центр, сприятливий для бізнесу, нещодавно намагався продемонструвати потенціал країни у сфері штучного інтелекту.

Офіс Нетаньяху в червні заявив, що він розмовляв по телефону з Маском про ШІ.

За словами Оффіра Гутельзона, який допомагає в організації протесту, ізраїльські технічні працівники, які живуть у районі затоки, планують провести демонстрацію, яка збігатиметься з візитом прем’єр-міністра в понеділок.