Китай поки що не здатний випускати чіпи тонше 90 нм без імпортного обладнання

Незважаючи на активну закупівлю зарубіжного обладнання китайськими виробниками чіпів, що ще не потрапив під санкції, і деякому прогресу в частині його імпортозаміщення, місцева напівпровідникова промисловість все ще не може похвалитися наявністю адекватною для подальшого прогресу виробничою базою. Все передове обладнання китайського виробництва зосереджено наукових лабораторіях, а чи не на підприємствах галузі.

Про це, як пояснює South China Morning Post , на галузевому заході у серпні розповів заступник голови Китайської асоціації виробників обладнання для випуску електроніки. Лі Цзіньсян (Li Jinxiang) дав зрозуміти, що китайська напівпровідникова галузь має подолати довгий шлях, перш ніж вдасться знизити залежність від імпортного обладнання. Жодна з виробничих ліній на території Китаю, як він зазначив, не оснащена літографічною системою вітчизняного виробництва, оскільки основна їхня частина має статус прототипів і використовується для наукових досліджень.

Можливо, саме на цьому переконанні ґрунтуються й висновки американських чиновників, які після виходу на ринок смартфона Huawei Mate 60 Pro на базі випущеного в умовах санкцій китайського 7-нм процесора HiSilicon Kirin 9000s запустили власне розслідування. За словами міністра торгівлі США Джини Раймондо (Gina Raimondo), це розслідування встановило, що Китай не має можливості випускати 7-нм чіпи в масових масштабах, якщо спиратися на докази, які є в розпорядженні США.

Безумовно, Китай довгі роки намагається розробити власні літографічні системи передового класу, але найкращі моделі повністю китайського обладнання цього типу, що їх випускає шанхайська компанія SMEE, зараз здатні працювати лише з 90-нм літографічними нормами. У цьому плані такий сканер поступово поступається можливостям як японських, і нідерландських зразків. Втім, китайські експерти стверджують, що покладати всю провину за відставання на ту ж саму компанію SMEE було б несправедливо. Літографічна система складається з безлічі компонентів, що постачаються сторонніми компаніями, і постачальники SMEE теж помітно відстають від західних конкурентів. Сама компанія лише до кінця року почне постачати літографічні системи, здатні працювати з 28-нм технологією.

За прогнозами аналітиків Albright Stonebridge Group, пройде не менше чотирьох або п'яти років, перш ніж застосована в умовах масового виробництва літографічна система класу EUV з'явиться в Китаї стараннями місцевих розробників обладнання, що покладаються виключно на локальних постачальників компонентів. Лідером у постачанні таких літографічних сканерів на світовому ринку є компанія ASML з Нідерландів, але влада цієї країни заборонила їй постачати таким обладнанням китайських клієнтів ще в 2019 році, а тепер нові санкції готуються розширити перелік заборон на більш зрілу техніку.